ASML High NA EUV售價高達124億！台積電都覺得貴 一文看懂最新製程細節
【記者蕭文康／台北報導】AI驅動半導體需求，全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾 （ASML ）於 SEMICON TAIWAN 2024分享新一代高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術，可在相同單位面積的晶片高2.9倍電晶體密度、成相對比提高4成、每小時可曝光185片晶圓及可大幅降低整體生產所需電力，簡而言之，ASML強調，High NA EUV 將協助晶片製造商簡化製造工序、提高產能，並降低每片晶圓生產的能耗。
